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微電子化學品
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產品描述

電子材料在加工☁₪▩,精加工和清潔操作期間需要非常高的精度•▩▩。磨削☁₪▩,鋸切/線鋸☁₪▩,研磨☁₪▩,固定磨料加工☁₪▩,拋光☁₪▩,CMP(化學機械拋光/平面化)☁₪▩,減薄☁₪▩,切割和清洗晶錠和晶圓的關鍵工藝終究會對器件效能產生重大影響•▩▩。

電子材料在加工☁₪▩,精加工和清洗工序過程中需要極高的精度•▩▩。而晶錠和晶圓需經過磨削☁₪▩,鋸切/線鋸☁₪▩,研磨☁₪▩,固定磨料加工☁₪▩,拋光☁₪▩,CMP(化學機械拋光/平面化)☁₪▩,減薄☁₪▩,切割和清洗等關鍵工藝☁₪▩,並且這些工藝終究會對產品效能產生較大影響•▩▩。

高純度☁₪▩,化學工程☁₪▩,冷卻劑☁₪▩,潤滑劑☁₪▩,研磨漿料/懸浮液和清潔劑可用於電子材料的每個加工☁₪▩,精加工和清潔步驟(處理中和後處理)•▩▩。用於各種高科技行業裝置製造的晶體☁₪▩,陶瓷☁₪▩,玻璃☁₪▩,金屬和幾乎所有固體材料均採用Chemetall Precision Microchemicals的產品加工•▩▩。

在電子材料加工··、精加工和清潔(處理中和後處理)的步驟中☁₪▩,高純度的符合化學工程的冷卻劑··、潤滑劑··、研磨液/懸浮液和清潔劑都是必需品•▩▩。Chemetall精密微化學公司的產品廣泛用於各種高科技行業產品的製造過程中☁₪▩,其中涉及到晶體··、陶瓷··、玻璃··、金屬等幾乎所有固體材料的加工•▩▩。

 

選擇合適的產品

在加工過程中實現表面優越和低表面損傷☁₪▩,並選擇更好的冷卻劑☁₪▩,潤滑劑☁₪▩,磨料漿和清潔劑•▩▩。Chemetall Precision Microchemicals的產品專為特定半導體和光學/電光晶體的每個關鍵加工步驟而設計•▩▩。

透過對冷卻劑··、潤滑劑··、磨料漿和清洗劑的俱佳選擇☁₪▩,實現表面優越和低表面損傷•▩▩。Chemetall精密微化學公司的產品專為特定半導體和光學/電光晶體的每個關鍵加工步驟而設計•▩▩。

 

從加利福尼亞和新加坡到世界各地

精密微化學公司Chemetall的全球業務位於美國加利福尼亞州弗裡蒙特☁₪▩,位於矽谷的中心地帶☁₪▩,為北美和歐洲的高科技行業開發和製造精密消耗品•▩▩。新加坡的類似研發和大規模製造工廠為東南亞市場提供服務•▩▩。

Chemetall精密微化學公司的全球業務中心位於美國加利福尼亞州弗裡蒙特☁₪▩,處於矽谷的中心地帶☁₪▩,為北美和歐洲的高科技行業開發和製造精密消耗品•▩▩。新加坡的一個類似的研發和大規模生產設施為東南亞市場提供服務•▩▩。

 

我們的技術系列☁╃:

 
  • 清洗劑
  • Sabre®Picperlean15
  • Sabre®Mircoclean227
  • Sabre®Picperlean31A
  • Sabre®Picperlean129
  • Sabre®Picperlean105
  • Sabre®Picperlean137
  • Sabre®Picperlean212
  • Sabre®Picperlean227-2A
  • Sabre®Picperlean565
  •  
  • 冷卻液
  • SabreLube™9016
  • TechCool®MicroCut28S
  • TechCool®MicroCut57-1
  • TechCool®MicroCut58
  • TechCool®MicroCut61V
  • TechCool®MicroCut707F
  •  
  • 磨料化合物☁₪▩,研磨液和拋光液
  • ChemePol P系列
  • MicroLapTM氧化鋁拋光液
  • MicroLapTM二氧化矽拋光液
  • MicroLapTM E 多晶鑽石粉拋光液
  • MicroLapTM研磨液
  •  

    應用領域☁╃:

     
  • 陶瓷和硬脆性材料
  • 研磨拋光☁₪▩,工業用
  • 發光二極體(LED)
  • 磁頭☁₪▩,可記錄媒體/ 硬碟
  • 光學和電光元件
  • 半導體
  • 太陽能元件
  • 工具☁₪▩,模具
  •  

     

     

    • 高純度產品系列
    • 適用於許多技術行業的各種材料
    • 經驗豐富☁₪▩,積極進取的團隊
     
     
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    電話☁╃:+86(0)21-58120929 
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    郵編☁╃:201210
     

     

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